ULCoat系列可以在處理過(guò)的表面上沉積薄膜

ULCoat系列

通過(guò)在放電后向等離子體中注入前驅體，ULCoat系列可以在處理過(guò)的表面上沉積薄膜。

ULCoat是一款可將前驅體汽化并注入等離子體中，后由噴嘴完成薄膜沉積的系統。ULCoat系列需要與ULS OMEGA系列配合使用。
ULCoat系列的標準版本是為了允許使用有機金屬作為前驅體進(jìn)行氧化硅（SiOx）的沉積而設計的。當然，我們也可以根據要求開(kāi)發(fā)其他薄膜成分。
您可以與我們的研發(fā)實(shí)驗室合作，在研發(fā)合同的框架下，定制您的專(zhuān)屬解決方案。

ULCoat系列技術(shù)特點(diǎn)

– 與ULS OMEGA系列搭配使用

– 薄膜沉積

– 沉積厚度范圍從50至1000納米

– 沉積薄膜厚度均勻（+/- 2%）

– 中高處理速度可達200nm.cm2/s

– 專(zhuān)為氧化硅(SiOx)的沉積進(jìn)行優(yōu)化

噴嘴

在注入等離子體之前，液態(tài)前驅體的流速是可以控制的。該模塊由幾個(gè)部分組成。

– 前驅體儲存罐

– 前驅體流量控制單元

– 氣體流量控制單元

– 加熱器模塊（可選）

直觀(guān)的數字觸控屏

– 內置觸摸屏（OEM版本除外）

– 直觀(guān)的控制方式

– 多語(yǔ)言界面

– 故障檢測和診斷

– 實(shí)時(shí)顯示指令

適用氣體

– 空氣

– 氮氣

– 其他混合氣體

ULCoat系列的優(yōu)勢

– 工作溫度低

– 沉積薄膜厚度均勻（+/- 2%）

– 可以研究其他類(lèi)型的沉積

– OpenFlow版本可用于開(kāi)發(fā)新的沉積工藝