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什么是等離子體態(tài)?
等離子體態(tài)通常會(huì )被稱(chēng)為“物質(zhì)的第四態(tài)"不同于自然界中的固體、液體或氣體,等離子體只能從持續接受能量的氣體中獲取。
舉個(gè)例子,在氣體中放置兩個(gè)電極并施加一定的電壓以產(chǎn)生放電,此時(shí)便可產(chǎn)生等離子體。這就產(chǎn)生了一種包含許多高活性物質(zhì)的電離介質(zhì),如離子(帶正電或負電)和激發(fā)的亞穩態(tài)分子。
在表面處理中,正是利用了這些高活性物質(zhì)的特性,讓它們參與非??焖俚幕瘜W(xué)反應。
根據制造等離子體的技術(shù)手段和預期用途,氣體介質(zhì)的溫度可保持在較低水平,接近環(huán)境溫度;又或者大幅上升,達到1000℃以上的溫度。這就是所謂的冷等離子體或熱等離子體。
等離子體可在低壓(或真空)或常壓下產(chǎn)生。
低壓等離子體需要在真空室中產(chǎn)生,一般是由真空泵制造低于大氣壓的壓力。這類(lèi)裝置在表面處理方面提供了很大的可能性,但泵送時(shí)間的長(cháng)短往往是其工業(yè)發(fā)展中的一個(gè)限制。
在大氣壓力下,等離子體會(huì )由專(zhuān)門(mén)設計開(kāi)發(fā)的設備中產(chǎn)生。因此常壓等離子體的配置具有雙重經(jīng)濟優(yōu)勢:它避免了真空室和抽氣裝置的投入成本,并且,通過(guò)直接集成到連續運行的生產(chǎn)線(xiàn)上,這可以直接提高生產(chǎn)效率。
在A(yíng)cXys Technologies,令我們引以為豪的等離子體技術(shù)是獨立自主開(kāi)發(fā)的,包括集成在主機中的可控功率電子裝置,和性能出色的的等離子體源。
我們所開(kāi)發(fā)的等離子體技術(shù)與設備,使高速處理材料成為可能,并能與工業(yè)應用中涉及的多種材料兼容。
等離子體其顯著(zhù)的化學(xué)反應性,可以用來(lái)改造許多材料的表面。為了獲得這一結果,只需將參與反應的氣流引向待處理的表面即可。
由此產(chǎn)生的可用于表面處理的化學(xué)反應可分為以下三類(lèi)。
等離子體技術(shù)能夠去除極薄的表面污染層,無(wú)論是有機物還是碳氫化合物。
除了基于液體的清潔技術(shù)外,在某些應用場(chǎng)景下也會(huì )使用等離子體清潔。
表面活化是通過(guò)向材料表層添加原子或分子的方式,改變材料表面性質(zhì)的過(guò)程。
這一工藝現已被廣泛應用在工業(yè)生產(chǎn)中,尤其是當涉及到需要增強粘合劑、油墨、油漆或清漆的附著(zhù)力時(shí)。
等離子體技術(shù)同樣也會(huì )被應用在薄膜沉積的工藝中。
可通過(guò)將待沉積的液態(tài)或氣態(tài)化學(xué)制品與等離子體混合,最終沉積在材料表層。