原因是測量點(diǎn)只有一個(gè),很難清楚地識別位置。
另外,我想避免接觸測量,如果可能的話(huà),這可能會(huì )導致劃痕。尤其是半導體曝光機的大口徑鏡頭,
玻璃材質(zhì)是有原因的,但要求光學(xué)性能最高,
壁厚公差嚴格。
測量的另一個(gè)原因是為了
響應在鏡片加工過(guò)程中(特別是在初始階段)測量壁厚的要求。如您所知,被稱(chēng)為難玻璃
材料的軟玻璃材料,由于晶體取向的問(wèn)題,具有被快速刮掉的特性。此外,材料成本
高,我們希望減少加工錯誤。此外,使用其他公司的測量光通過(guò)樣品正面和背面的
反射光測量壁厚的設備無(wú)法進(jìn)行此測量。
* 由于測量粗糙表面時(shí)物體之間的距離會(huì )有輕微誤差,
建議使用四邊形位移計或在表面涂油。