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硅單晶提升裝置用放射溫度計介紹
可進(jìn)行高精度、出色的再現性微小光點(diǎn)的溫度測量
在硅單晶提拉工序中,液面溫度和維塔溫度是左右鑄錠純度和鑄錠尺寸的重要要點(diǎn)。通過(guò)使用輻射溫度計在線(xiàn)進(jìn)行測量和控制,可以生成高品質(zhì)的錠子。
導入效果
抓住液面的正確的溫度變化,提高質(zhì)量,通過(guò)加熱器的溫度控制為省工業(yè)內做出貢獻
[商品的特點(diǎn)]
·距離系數大,可測量微小面積的溫度(IR-CZ)耐污染性強的雙色溫度計(1R-CZ)
●即使是小的測定容也可以設置的小形狀的聚光部(IR-FA)
功能強大的類(lèi)型,可進(jìn)行單色或雙色測量,并可在 400℃ 至 2000℃ 的測量范圍內選擇各種測量波長(cháng)。光學(xué)系統和電路板全面更新,實(shí)現長(cháng)期穩定。配備窗口污垢檢測功能,方便通過(guò)真空爐等窗口進(jìn)行測量。
實(shí)現高精度和長(cháng)期穩定性
利用我們過(guò)去的經(jīng)驗和技術(shù),我們重新設計了光學(xué)系統和電路設計,以實(shí)現從低溫到超高溫的穩定測量。
長(cháng)期穩定性已評估了大約 3 年,溫度支持一直保持在定范圍內。
工作溫度范圍:60℃(最高)這
是通過(guò)使用耐熱電子元件、提高物鏡的耐熱性、提高環(huán)境溫度校正性能來(lái)實(shí)現的。
通過(guò)與各種配件相結合,它可以應對更惡劣的環(huán)境。
將透鏡和光纖組合成光學(xué)系統的輻射溫度計。鏡頭部分形狀較小,可在150攝氏度的環(huán)境下使用。一種短波長(cháng)溫度計,測量范圍為400℃至3000℃,因測量目標表面狀況的變化對溫度讀數影響很小。
精度高、響應快、可靠性高
緊湊、輕便、DIN 導軌安裝、溫度顯示、含操作鍵
采用耐熱纖維,即使在150℃環(huán)境下也無(wú)需水冷
通過(guò)各種信號調制功能可以實(shí)現穩定的溫度測量。
可以選擇通過(guò)模擬輸入進(jìn)行發(fā)射率設置和自動(dòng)發(fā)射率計算功能。
提供通訊接口 RS-485 (Chino Bus)
符合 CE 標志