圖案化晶圓檢測設備包括SEM檢測設備、明場(chǎng)檢測設備和暗場(chǎng)檢測設備。 它們各有各的特點(diǎn)，但基本的缺陷檢測原理是相同的。
半導體晶圓與具有相同圖案的電子設備并排制造。
隨機缺陷通常是由異物等碎屑引起的，顧名思義，它們發(fā)生在晶圓上未定的（隨機）位置。 在特定位置重復發(fā)生的概率被認為非常低。 因此，缺陷檢測設備通過(guò)比較相鄰芯片（也稱(chēng)為芯片）的圖案圖像并取差異來(lái)檢測缺陷。

圖5-1說(shuō)明了圖案化晶圓上的缺陷檢測原理。
電子束和光沿芯片陣列捕獲晶圓上圖案的圖像。 為了使缺陷檢查裝置檢測缺陷，請將要檢查的模具的圖像（1）與相鄰模具（2）的圖像進(jìn)行比較。
當圖像經(jīng)過(guò)數字處理和減去時(shí)，如果根本沒(méi)有缺陷，則減法為“0"，未檢測到缺陷。 另一方面，如圖所示，在減去（2）中的模具圖像有缺陷后，缺陷的圖像保留在差分圖像（3）中。 然后，缺陷檢查器檢測到缺陷，并將其與其位置坐標進(jìn)行登記。

無(wú)圖案晶圓檢測系統設計用于晶圓制造商的晶圓出貨檢驗、設備制造商的晶圓驗收檢驗以及設備清潔度監測。它用于設備狀態(tài)檢查等。 設備狀況檢查還用于設備制造商的運輸檢查和設備制造商在交付設備時(shí)的驗收檢查。
將用于清潔監測的鏡面晶片裝入制造設備，在設備中移動(dòng)載物臺后，監測異物程度并檢查設備的清潔度。

圖5-2顯示了無(wú)圖案晶圓的缺陷檢測原理。
在沒(méi)有圖案的情況下，直接檢測缺陷，無(wú)需任何特定的圖像比較。
激光束照射在旋轉晶圓上并沿徑向移動(dòng)（相對）以照射晶片的整個(gè)表面。

當晶圓旋轉并且激光束擊中異物/缺陷時(shí)，光被散射，散射光被檢測器檢測到。 這將檢測異物/缺陷。 根據晶圓的旋轉角度和激光束的徑向位置，確定并記錄異物/缺陷的坐標位置。
鏡面晶圓上的缺陷不僅是異物，還有COP等晶體缺陷。

產(chǎn)品介紹

介紹我們的缺陷審查SEM和晶圓檢測設備陣容。