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運用在半導體行業(yè)的手動(dòng)無(wú)損(渦流法)電阻檢測技術(shù)

發(fā)布時(shí)間:2021-07-15 點(diǎn)擊量:2017

運用在半導體行業(yè)的手動(dòng)無(wú)損(渦流法)電阻檢測技術(shù)

半導體技術(shù)的發(fā)展,決定了測試技術(shù)需要不斷的提高與創(chuàng )新。傳統的四探針?lè )ū憩F出很多不足,這一現實(shí)決定了必須尋求其他方法以彌補這些不足。本文對渦流法用于半導體測試方面進(jìn)行了研究。本次設計采用實(shí)驗和計算機數值模擬相結合的方法,對電渦流傳感器的性能進(jìn)行了計算機輔助分析。通過(guò)研究了激勵頻率,檢測距離以及線(xiàn)圈尺寸等參數對測量結果的影響,得到了600KHz的激勵頻率,0.05mm的檢測距離,3.3mm的線(xiàn)圈內徑和5mm的外徑等線(xiàn)圈參數;

帶有手持探頭的手動(dòng)無(wú)損(渦流法)電阻測量?jì)xEC-80P


產(chǎn)品特點(diǎn)

  • 只需觸摸方便的探頭即可進(jìn)行電阻測量。

  • 在電阻率/薄層電阻測量模式之間輕松切換

  • 使用 JOG 撥盤(pán)輕松設置測量條件

  • 連接到連接器的電阻測量探頭是可更換的,因此它支持廣泛的電阻范圍。

  • (電阻探頭:最多可使用2+PN判斷探頭)

測量規格

測量對象

半導體/太陽(yáng)能電池材料相關(guān)(硅、多晶硅、SiC等)
新材料/功能材料相關(guān)(碳納米管、DLC、石墨烯、銀納米線(xiàn)等)
導電薄膜相關(guān)(金屬、ITO等)
硅-基于外延、離子注入的樣品
化合物半導體相關(guān)(GaAs Epi、GaN Epi、InP、Ga等)
其他(*請聯(lián)系我們)

測量尺寸

無(wú)論樣品大小和形狀如何都可以測量(但是,它大于 20 mmφ 并具有平坦的表面)

測量范圍

[電阻率] 1 m 至 200 Ω ? cm
(* 所有探頭類(lèi)型的總范圍/厚度 500 um)
[薄層電阻] 10 m 至 3 k Ω / sq
(* 所有探頭類(lèi)型的總范圍)

* 有關(guān)每種探頭類(lèi)型的測量范圍,請參閱以下內容。
(1) 低:0.01 至 0.5 Ω / □ (0.001 至
0.05 Ω -cm) (2) 中:0.5 至 10 Ω / □ (0.05 至 0.5 Ω-cm)
(3 ) 高:10 至 1000 Ω / □ ( 0.5 to 60Ω-cm)
(4) S-High: 1000 to 3000Ω/□ (60 to 200Ω-cm)
(5) Solar Wafer: 5 to 500Ω/□ (0. 2 to 15Ω-cm)




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