日本advance2ω法納米薄膜熱導儀TCN-2ω

產(chǎn)品型號：

所屬分類(lèi)：熱導率

產(chǎn)品時(shí)間：2021-03-15

簡(jiǎn)要描述：日本advance2ω法納米薄膜熱導儀TCN-2ω
該設備是世界上唯yi使用2ω方法測量納米薄膜在厚度方向上的導熱率的商用設備。與其他方法相比，樣品的生產(chǎn)和測量更加容易。

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日本advance2ω法納米薄膜熱導儀TCN-2ω

該設備是世界上唯yi使用2ω方法測量納米薄膜在厚度方向上的導熱率的商用設備。與其他方法相比，樣品的生產(chǎn)和測量更加容易。

使用

• 量化低K絕緣膜的熱阻，以用于半導體器件的熱設計
• 絕緣膜的開(kāi)發(fā)和散熱的改善
• 在熱電薄膜中的應用評價(jià)

特征

• 可以測量在基板上形成的20至1000nm的薄膜的厚度方向上的熱導率。
• 使用熱反射法通過(guò)溫度幅度檢測實(shí)現測量
• 易于預處理的測量樣品

日本advance2ω法納米薄膜熱導儀TCN-2ω

規格

測量原理

關(guān)于“在絕熱邊界條件下通過(guò)2ω法評估薄片樣品的導熱系數”的論文

當金屬薄膜以f / Hz的頻率加熱時(shí)，加熱量變化為2f / Hz。
在充分散熱的條件下，金屬薄膜（0）–薄膜（1）–基板（s）的三層系統中金屬薄膜表面的溫度變化T（0）是一維的穿過(guò)金屬薄膜/薄膜，以下公式用于表示傳熱模型的解析解。

（Λ：導熱率W m ^-1 K ^-1，C：體積比熱容JK ^-1 m ^-3，q：每體積的熱量W m ^-3，d：厚度m，ω：角頻率（=2πf） / s ^-1）

由于實(shí)數解（同相振幅）包含薄膜的信息，因此在相同條件下以不同頻率進(jìn)行測量時(shí)，同相振幅與（2ω）^-0.5成比例。
的熱導率λ ₁所述的薄膜是通過(guò)以下公式獲得。
（M：斜率，n：截距）

Si基板上的SiO ₂薄膜（20-100 nm）的示例